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Séminaire mensuel NEEL

Mardi 17 septembre 2019 à 9h30,
Salle des séminaires, Bât. A

Orateur : Jean-François Motte
"Techniques de lithogravure par faisceaux d’ions (Ga+) Focalisés (FIB) à l’Institut Néel"

Abstract

Les FIB de nouvelles générations sont tous couplés avec une colonne de microscope électronique à balayage (MEB). Mais là où le MEB utilise un faisceau d’électrons focalisés pour faire l’image d’un échantillon, le "FIB" utilise un faisceau d’ions focalisés pour pulvériser la matière, contrairement aux MEB, les images FIB sont destructives. Par conséquent, leur domaine d’application est plus la micro-nanofabrication que la microscopie.
Le FIB est un instrument très utilisé dans des domaines d’applications comme la science des matériaux et en particulier le domaine du semi-conducteurs et de la recherche scientifique.
A l‘Institut Néel, nous sommes équipés d’un MEB LEO1530 équipé d’une colonne FIB Orsay Physics. Cet équipement permet de réaliser un grand nombre de lithogravure.
Dans cet exposé, je ferai une introduction sur la technique FIB et les différents équipements existants. Je donnerai différents exemples de gravure de structures plasmoniques, de vue en coupe d’échantillon, de modifications de circuit, fabrications de sondes pour la microscopie à effet tunnel (STM) et je finirai par la manipulation d’objet unique et de préparation de lame mince pour la microscopie électronique à transmission (TEM).

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