Accueil du site Séminaires Seminaire MCMF

Seminaire MCMF

Jeudi 28 novembre à 14h30,
Salle Erwin Bertaut, F418.

Orateur : Jean-Paul Barnes, Animateur-Centre de Compétences Faisceaux d’Ions DTSi (SCMC), Laboratoire d’électronique et de technologie de l’information (Leti), CEA, Grenoble

"Profilage et imagerie des éléments mineurs dans des matériaux organiques et inorganiques par spectrométrie de masse à temps de vol (ToF-SIMS)"

Abstract

La spectrométrie de masse des ions secondaires à temps de vol (ToF-SIMS possède une excellente sensibilité (ppm au ppb), ce qui en fait une technique de choix, en particulier, en microélectronique, pour la caractérisation des dopants et des couches minces. Aujourd’hui le ToF-SIMS doit répondre aux nouvelles exigences de l’électronique organique (oLEDS, photovoltaique). Ces améliorations nécessitent le développement de nouvelles sources d’ions, notamment des sources polyatomique de cluster d’argon. Ces sources produisent des clusters composés de quelques milliers d’atomes. Chacun des atomes possède une énergie pouvant être aussi faible que quelques eV, ce qui permet une abrasion très peu invasive et une faible fragmentation des ions secondaires. Il devient donc possible de profiler des hétérostructures organiques par ToF-SIMS. Au cours de cet exposé, nous montrerons à l’aide d’exemples variés, le potentiel de l’utilisation des nouvelles sources à cluster d’ions ainsi que le couplage avec d’autres techniques telles que l’AFM, l’XPS et la sonde atomique tomographique (atom-probe).

Dans la même rubrique

© Institut Néel 2012 l Webdesign chrisgaillard.com l Propulsé par spip l Dernière mise à jour : Thursday 20 September 2018 l